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Couloscope CMS2庫(kù)倫法涂層測(cè)厚儀的詳細(xì)資料：
庫(kù)倫法涂層測(cè)厚儀
作為測(cè)量鍍層厚度簡(jiǎn)單的方法之一，庫(kù)侖法可以用于各種鍍層組合。 尤其對(duì)于多鍍層結(jié)構(gòu)， 當(dāng)允許破壞性測(cè)量時(shí)，它提供了一個(gè)比X射線(xiàn)更經(jīng)濟(jì)的替代方法。 應(yīng)用 強(qiáng)大并且用戶(hù)友好的COULOSCOPE CMS2適用于電鍍行業(yè)的生產(chǎn)監(jiān)控和成品的質(zhì)量檢驗(yàn)。
很多常見(jiàn)的單、雙鍍層例如鐵鍍鋅或者銅鍍鎳鍍錫都可以用CMS2簡(jiǎn)單快速地測(cè)量。這個(gè)方法為任何金屬鍍層提供了準(zhǔn)確的測(cè)量。在厚度范圍 0.05 - 50 μm內(nèi)， 很多材料不需要預(yù)設(shè)定；基材組成和幾何形狀對(duì)于測(cè)量都是無(wú)關(guān)緊要的。
常見(jiàn)的應(yīng)用之一就是測(cè)量線(xiàn)路板上剩余的純錫，以確保可焊性。多鍍層例如 Cr/ Ni/Cu在鐵或者塑料（ABS）基材上，經(jīng)常被用于高品質(zhì)的浴室用品，也可以用這個(gè)方法進(jìn)行測(cè)量。
測(cè)量原理 這個(gè)系列儀器根據(jù)DIN EN ISO 2177標(biāo)準(zhǔn)的庫(kù)侖法。 金屬或非金屬基材上的金屬鍍層，通過(guò)在控制電流條件下電解腐蝕--------實(shí)際上就是電鍍的反過(guò)程。所載入的電流與要?jiǎng)冸x的鍍層厚度是成正比的，假如電流和剝離面積保持不變，鍍層厚度與電解時(shí)間就是成正比的關(guān)系。
測(cè)量槽------可比作微型電解缸------被用來(lái)剝離鍍層。 測(cè)量面積由裝在測(cè)量槽上的墊圈尺寸來(lái)決定。對(duì)不同的金屬采用不同配方的電解液。通過(guò)載入電流開(kāi)始電解過(guò)程。 電解過(guò)程由COULSCOPE儀器的電子部分控制， 用一個(gè)泵攪拌電解液來(lái)使電解區(qū)域電解液平穩(wěn)腐蝕，保證電解液利用。 根據(jù)測(cè)量區(qū)域的大小，各種直徑的墊圈 可供選擇。
STEP Test是在允許腐蝕的情況下用來(lái)同時(shí)測(cè)量電位差和多層鎳的鍍層厚度，該方法是這個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域的標(biāo)準(zhǔn)。 應(yīng)用
多層鎳鍍層的品質(zhì)控制需要能在電鍍完成后立刻檢查厚度和電位差的儀器。 COULOSCOPE CMS2 STEP 就是為這個(gè)目的而設(shè)計(jì)的，它操作簡(jiǎn)單，參比電極使用起來(lái)也不復(fù)雜，非常適合電鍍工廠苛刻環(huán)境下的這種應(yīng)用
電鍍鎳層用作電解保護(hù)和提高機(jī)器表面屬性，如硬度等。 特別是汽車(chē)工業(yè)中，電鍍鎳部件在防腐蝕方面要滿(mǎn)足很高的要求。單一鎳層無(wú)法滿(mǎn)足該要求。因此，目前正在開(kāi)發(fā)非常復(fù)雜的鍍層系統(tǒng)，其中包含兩層、三層甚至四層鍍鎳層，還有鉻或銅鍍層。
測(cè)量原理 STEP Test 是(Simultaneous Thickness and Electrochemi- cal Potential determination)（同時(shí)測(cè)量鍍層厚度和化學(xué)電位差）的簡(jiǎn)寫(xiě)，是已經(jīng)標(biāo)準(zhǔn)化很久的測(cè)量方法。它可以同時(shí)測(cè)量各鍍層厚度和多層鎳系統(tǒng)中兩層之間的電化學(xué)電位差。 厚度測(cè)量時(shí)用庫(kù)侖法來(lái)測(cè)量，電位差通過(guò)外面鍍一層AgCl的銀參比電極來(lái)測(cè)量。電壓曲線(xiàn)可以顯示在屏幕上，鍍層厚度和電位差可以在圖上讀出。 為了獲得可以比較的穩(wěn)定電位差測(cè)量結(jié)果，參比電極到工件的距離必須始終保持不變。這個(gè)問(wèn)題通過(guò)特殊的測(cè)量槽得到解決。
銀參比電極被設(shè)計(jì)成一個(gè)圓錐形的環(huán)狀電極，并作為測(cè)量槽底部的外殼與測(cè)量槽蓋連接。測(cè)量槽的設(shè)計(jì)保證了參比電極與工件之間的距離始終不變。
COULOSCOPE® CMS2 STEP
CMS2 STEP 的特征是STEP測(cè)試功能（同時(shí)測(cè)定厚度和電位差）。 在多層鎳的質(zhì)量監(jiān)控中用于對(duì)鍍層厚度和電位差的標(biāo)準(zhǔn)化STEP測(cè)試 （根據(jù)ASTM B764-94和DIN 50022）。鍍層厚度根據(jù)庫(kù)侖法得出， 而電位差則由一個(gè)鍍有AgCl的銀電極得到。
COULOSCOPE® CMS2
CMS2可以測(cè)量幾乎所有基材上金屬鍍層的厚度，包括多鍍層結(jié)構(gòu); 它的工作原理是根據(jù)陽(yáng)極溶解的庫(kù)侖法 （DIN EN ISO 2177）。 簡(jiǎn)單的操作和菜單化的操作指導(dǎo)使CMS2成為電鍍行業(yè)生產(chǎn)監(jiān)控和質(zhì)量檢驗(yàn)理想的解決方法。設(shè)備為不同的鍍層結(jié)構(gòu)配備了近100個(gè)預(yù)留的應(yīng)用程式（例如，鐵上鍍鋅，黃銅上鍍鎳）, 以及各種電解速度（例如1, 2, 5, and 10 μm/min）。這些應(yīng)用程式適用于多鍍層系統(tǒng)。
COULOSCOPE® CMS2的特征
大尺寸高分辨率的彩色顯示器
簡(jiǎn)單的操作和圖示的用戶(hù)指導(dǎo)
使用V18支架實(shí)現(xiàn)半自動(dòng)化測(cè)量
電解速度和測(cè)量面積的簡(jiǎn)單選擇 （0.1 ----- 50 μm/min） 和（0.6 ----- 3.2 mm Ø）
電壓曲線(xiàn)圖形顯示
圖形和統(tǒng)計(jì)分析 多語(yǔ)言和計(jì)量單位可供選擇
COULOSCOPE® CMS2 STEP的特殊功能
同時(shí)測(cè)量鍍層厚度和電位差
銀參比電極的簡(jiǎn)單準(zhǔn)備
可調(diào)節(jié)的電解電流
